
在精密光學領域,材料的性能直接決定著設備的運行精度與應用邊界。德國Hellma作為深耕光學材料領域近百年的,其研發(fā)生產的氟化鈣(CaF?)晶體,憑借穩(wěn)定的光學特性、嚴苛的質量控制與廣泛的適配能力,成為眾多工業(yè)制造與科研創(chuàng)新場景的適配選擇。
Hellma氟化鈣晶體源自高純度原材料,通過成熟的晶體生長工藝精制而成,從德國耶拿的生產基地走出,遠銷全球多個國家和地區(qū)。作為合成晶體材料的代表性產品,它不僅延續(xù)了品牌在光學領域的技術積淀,更通過持續(xù)的工藝優(yōu)化,實現(xiàn)了從深紫外到紅外波段的全面覆蓋——透光范圍可達130nm至9μm,能夠滿足真空紫外(VUV)、深紫外(DUV)、可見光及紅外(IR)等多波段應用的光學需求。這種廣譜透光特性,讓它在多波段協(xié)同工作的光學系統(tǒng)中展現(xiàn)出天然優(yōu)勢,為信號傳輸?shù)耐暾蕴峁┝嘶A保障。


在核心性能層面,Hellma氟化鈣晶體呈現(xiàn)出諸多優(yōu)良特質。其折射率均勻性可達到優(yōu)于0.5ppm的水平,應力雙折射控制在0.5nm/cm以內,有效減少了光線傳播過程中的畸變與損耗,確保光學信號的精準傳遞。針對激光應用場景,該晶體具備出色的激光耐久性,適配193nm、248nm等準分子激光波長,在光刻激光光學器件、光束傳輸系統(tǒng)中能夠保持長期穩(wěn)定的工作狀態(tài),延長光學組件的使用壽命。同時,它還擁有低光譜色散(阿貝數(shù)95.23)、低非線性折射率等特性,在色校正光學系統(tǒng)中能夠提升成像質量,這一優(yōu)勢使其在天文學觀測設備、高清變焦鏡頭、顯微鏡等產品中得到廣泛應用。
在規(guī)格適配性上,Hellma氟化鈣晶體展現(xiàn)出較強的靈活性。根據(jù)應用需求,可提供多晶與單晶兩種類型,直徑最大可達440mm(多晶)與250mm(單晶),厚度可定制至150mm,能夠滿足從微型光學組件到大型光學窗口的不同尺寸需求。晶體取向支持<111>、<100 >及隨機取向定制,表面質量可選擇原始、切割、研磨或拋光處理,精準匹配真空視窗、光譜儀核心組件、醫(yī)用激光器件等不同場景的安裝與使用要求。
作為半導體微光刻領域的成熟應用材料,Hellma氟化鈣晶體已成為248nm與193nm微光刻技術中照明和投影光學的行業(yè)常用選擇,為半導體制造的精密化提供了關鍵光學支撐。在真空技術領域,其優(yōu)異的環(huán)境耐受性與結構穩(wěn)定性,使其成為空間濾光片、壓縮機室真空窗口的適配材料;在科研與醫(yī)療領域,它廣泛服務于紅外光譜傳感器、醫(yī)用激光器、光學相干斷層成像設備等,為精準檢測與診療提供助力。此外,在高能輻射環(huán)境下的穩(wěn)定表現(xiàn),也讓它在天基光學器件等特殊場景中具備重要價值。
Hellma始終將質量控制貫穿于晶體生長、加工、檢測的全流程。產品通過ISO 9001/14001質量管理體系認證及DAkkS認證,符合DIN EN ISO/IEC 17025標準要求,每一批次產品都經過嚴格的光學性能、機械性能及環(huán)境穩(wěn)定性檢測,確保交付品質的一致性與可靠性。依托品牌在光學材料領域的長期技術積累,Hellma不僅提供標準化產品,更能根據(jù)客戶的特殊應用場景提供定制化解決方案,從晶體參數(shù)設計到后續(xù)加工服務,形成全鏈條的技術支持體系。
從半導體制造的精密光刻到天文觀測的遙遠探測,從醫(yī)療設備的精準成像到工業(yè)檢測的高效傳感,德國Hellma氟化鈣晶體以其均衡的性能、穩(wěn)定的品質與廣泛的適配性,成為推動光學技術升級的重要基石。無論是追求批量生產的工業(yè)客戶,還是專注前沿創(chuàng)新的科研機構,都能在Hellma的產品體系中找到契合需求的光學材料解決方案。
選擇Hellma氟化鈣晶體,便是選擇了基于近百年技術積淀的品質保障,選擇了適配多元場景的光學賦能伙伴。我們期待與全球光學領域的從業(yè)者攜手,以適配需求的材料為橋梁,共同探索精密光學的更多可能。如需了解產品詳情或定制方案,可聯(lián)系北京漢達森劉超
德國 Hellma氟化鈣晶體技術參數(shù) 漢達森原廠直供